墨印:先进光刻仿真工具
  • 适合DUV/EUV光刻仿真的全波电磁场分析能力
  • 适用于28/14nm工艺的光刻胶模型 <- 与光刻胶厂合作
  • 等离子体刻蚀模型

EUV Mask全波仿真

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