墨研标准软件

墨易(OPC建模工具)

本软件用于计算光刻模型的参数提取。本软件主要处理由光源、光瞳及掩模版组成的光学成像系统。主要包括光学系统部件的数值运算处理，掩模版几何图形处理模块，光学系统核函数预计算数据模块，光刻胶化学扩散效应处理模块。

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墨正(OPC修正工具)

  • 本软件主要用于OPC的修正
  • 根据光刻模型仿真结果，对版图进行修正，使电路设计版图在硅片上精确成像
  • 全芯片OPC修正速度与主流OPC软件相仿

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墨显(OPC仿真、交互式recipe开发平台)

  • 本软件用于显示修正后的曝光效果
  • 查看曝光区域的光强分布

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墨印(先进光刻仿真工具)

  • 适合DUV/EUV光刻仿真的全波电磁场分析能力
  • 适用于28/14nm工艺的光刻胶模型 <- 与光刻胶厂合作
  • 等离子体刻蚀模型

定制软件

我们能为客户定制化开发，提供给每个客户最有效的解决方案。并在服务升级和服务模式采用更灵活的策略，从而让我们产品更有竞争力

光刻仿真:

  • 光刻物理仿真

  • 光刻胶仿真

  • 3D掩模仿真

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